什么是E光技術？

E光技術的治療原理是什么？

答：E光技術是光能和射頻能量的完美組合，相互協同作用。核心技術主要有三點：射頻+光能+表皮冷卻系統．利用皮膚對光能的選擇性吸收引起靶組織和正常皮膚的阻抗差異，在光能強度較低的情況下強化靶組織對射頻能量的吸收，極大的消除了光能過強的熱作用可能引起的副反應，并且提高了顧客的舒適度，傳統IPL設備治療深度只達皮下4mm，依靠E光技術，滲透可達皮膚15mm，同時治療范圍大幅度提高．

射頻：利用高頻電磁波——-射頻：產生的熱傳導作用，精確直達皮膚深層。利用皮膚的阻抗來產生能量；使細胞分子產生強烈的共振旋轉（800百萬次／秒的數量級）產生熱能，使皮膚底層的溫度瞬間升高，作用深度可達皮膚以下15  mm。

光能：E光是經過納米濾波技術，濾除對人體有害成份的光譜，使用530nm-1200nm的大范圍治療光譜，賦予其一定能量和強度釋放強脈沖光，輸出的光平穩、均衡、持久熱累計時間長。其中短波長用于治療血管性病變和色素性病變，實現美白嫩膚功能。長波段的光主要用于脫毛。

表皮冷卻系統：采用國內最先進的半導體制冷技術，表皮接觸式制冷，有效避免了光能和射頻能量的熱對皮膚的損傷，并且增加了表皮的阻抗使治療過程更加安全、舒適。

治療原理

利用最新的納米濾波技術發出特定波長的強脈沖光，穿透皮膚正常組織到達靶位、靶組織對它吸收的系數大于周圍正常皮膚組織的吸收，由于靶組織升溫速度明顯，能直接將高溫以破壞和擊碎的形式作用于患處，同時周圍的其它組織的加熱、散熱受到控制，并且利用正常皮膚對強脈沖光的不吸收和不敏感性，達到對正常皮膚損傷最低限度甚至無損傷，因此保持皮膚正常組織的活性。

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